放松了一天。
黄明哲年初四就接到马知力的报告，他连忙赶过去材料研究所。
“社长，你终于来了。”马知力兴奋的边走边说。
看着马知力等人那满眼血丝、头发乱糟糟的样子，就知道他们这些天一直在测试光敏材料规律模型。
“老马要劳逸结合，办公室谈吧！”黄明哲向办公室去。
“多谢社长关心，我一时间太兴奋而已。”
办公室里面，在场只有马知力和四个研究员，其他人都还没有回来上班。
“都坐。”黄明哲坐下之后：“模型计算出来的出材效率是8.6%左右，而出材合格率是1.7%左右。”
“是的，社长。”马知力兴奋的说道：“社长，你研发的计算模型太厉害了，简直是材料研发的神器。”
“宇宙万物都在数学之中，没有什么不可以被计算。”黄明哲微笑着说道。
如果之前有人在马知力等人面前这样说，他们绝对会嗤之以鼻，但是现在他们已经有些相信了。
“社长，你这个模型要是发出去，估计可以引发材料学革命。”马知力赞叹道。
黄明哲摇摇头说道：“这种国际精神要不得，这个模型我们内部自己用就可以了。”
“社长说得对。”
“我看了你们的报告，现在我给你们下一个任务。”
“社长请吩咐。”马知力连忙拿出笔记本说道。
“研发一种x射线高敏胶。”
“x射线高敏胶?社长是想研发光刻胶吧！”马知力一听便知道黄明哲的打算。
黄明哲点了点头：“没有错，就是x射线级别的光刻胶，我提几个要求，波长最好在3～8纳米之间；x射线敏感度要足够高，最好可以在几秒钟之内彻底溶解；另外对于x射线的能量级别，最好不需要高能级就可以实现快速光分解。”
“社长，如果我们研发x射线光刻胶，这个可是没有客户的。”马知力提醒道。
目前市面上的光刻机的光源，一般分为紫外光（uv）、深紫外光（duv）、极紫外光（euv），其中最先进的光刻机，就是尼德兰的阿斯麦公司生产的极紫外光（euv），波长为13.4纳米。
但是其实在上个世纪八十年代，光刻机行业之中，还有除了极紫外光（euv）路线，还存在着另一个路线——x射线光刻机。
为什么波长在10纳米以下的x射线光刻机，最后被极紫外光（euv）淘汰?
原因有两个，一是效率问题，x射线照射下光刻胶的光刻速度比较慢；二是精确度问题，为什么说波长10纳米以下的x射线，光刻精度差?因为掩模做不到10纳米以下。
掩模就是电路图的母板，为什么极紫外光（euv）的精度高，原因在于紫外光可以使用凸透镜缩小从掩模过来的光线，而所有人都知道x射线的穿透力非常强，凸透镜根本无法聚焦。
所以x射线光刻机被淘汰了。
市面上没有x射线光刻机，也就意味着没有客户。
“这个问题不是问题。”
“社长没有客户的话……”
黄明哲打断了马知力：“知道x射线光刻机为什么被淘汰吗?”
马知力点了点头。
“效率问题在于光刻胶的光敏性，如果我们研发一种可以在几秒钟内完成光刻的x射线光刻胶，那效率还是问题吗?”黄明哲反问道。